放射光を利用したトバモライト生成過程のその場X線回折　：原料シリカの影響

抄録

放射光X線を用いたその場X線回折により、水熱下におけるトバモライトの生成反応のメカニズムを解析した。原料として、粒度の異なる3種類のシリカ源と試薬水酸化カルシウムを用いた。これらと水を水／固体比：1.5で混合し、底部に水をためた圧力容器に設置し、190℃での反応過程を調査した。粒度が最も小さいシリカ(平均粒径2.2ミクロン)を用いた系では、トバモライトが生成せず、擬結晶質C-S-Hが生成した。他の2試料ではトバモライトの生成が認められ、その生成速度はシリカ原料の粒度に著しく影響された。