抄録
中空シリカナノスフィアを逆相液液分散系におけるケイ素テトラメトキシドのゾルゲル法によって調製した。ソルビタントリオレエーートおよび/あるいはビス(2-エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム（AOT）をシクロヘキサンに10 wt%で溶解し，油相とした。pH5.0のクエン酸水溶液を水相として用いた。体積分率0.01の水相をAOT濃度60 mass%以下の油相に加えたとき，逆エマルションが形成された。生成物は粒径200 nm以上であり，粒径分布は広かった。AOT濃度が70 mass%以上では可溶化が観察された。生成物は中空ナノ粒子であると認められ，その粒径は20～30 nm，壁厚は約5 nmだった。そのような均一な粒径はナノスフィアが逆ミセルを反応場として生成したことを示唆する。
