Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
20 nm Pitch Directed Block Copolymer Assembly Using Solvent Annealing for Bit Patterned Media
Joan K. Bosworth, Elizabeth Dobisz, Ricardo Ruiz
著者情報
キーワード: block copolymer, self assembly, solvent annealing, chemical epitaxy, directed self assembly
ジャーナル フリー

2010 年 23 巻 2 号 p. 145-148

詳細
PDFをダウンロード (914K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
記事の1ページ目
著者関連情報
© 2010 The Society of Photopolymer Science and Technology (SPST)
次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top