Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
Study of Copolymer Properties for ArF Excimer Laser Resists
Koji Asakawa, Tohru Ushirogouchi, Naomi Shida, Takeshi Okino, Makoto Nakase
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キーワード: ArF, alicyclic, menthyl, acrylic polymer, molecular weight, solubilty
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1997 年 10 巻 4 号 p. 559-560

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