Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
Characterization of tBOC based chemically amplified resist for SR lithography
Teruhiko Kumada, Hiroshi Adachi, Hiroshi Watanabe, Hiroaki Sumitani
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キーワード: SR lithography, chemically amplified resist, sensitivity curve, contrast
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1997 年 10 巻 4 号 p. 609-612

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