Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
A sensitive positive resist for 0.1-μm electron-beam direct-writing lithography
Tadashi Arai, Toshio Sakamizu, Kohji Katoh, Michiaki Hashimoto, Hiroshi Shiraishi
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キーワード: electron beam, nobolak, diffusion monitoring layer, alkyl onium iodides
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1997 年 10 巻 4 号 p. 625-628

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