Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
PHOTOCHEMICAL ACID GENERATION AND RESIST APPLICATION OF CAMPHORSULFONYLOXYMALEIMIDE COPOLYMERS
CHAN-MOON CHUNGKWANG-DUK AHN
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1996 年 9 巻 4 号 p. 553-556

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© The Technical Association of Photopolymers, Japan
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