光学顕微鏡における像コントラスト向上に関する検討

抄録

　微細形状パターンの観察や寸法計測に光学顕微鏡が用いられている。一般に、落射照明明視野検出方式では、対象パターンのピッチに応じて高次の回折角が大きくなる。このため、微細パターンの高次回折光は対物レンズに捕捉される割合が小さくなり、0次光と高次回折光が干渉して形成される光学像のコントラストが低下する。これにより、観察や寸法計測が困難になる。本講演では、光学像のコントラスト向上を目的として、0次光と高次回折光の振幅を制御して光学像を形成させる技術について検討した結果を発表する。