FIB－CVDによるDLC膜の作製

抄録

本研究では、ビーム径をnmオーダーに絞ることができ、電気的に走査が容易であるFIB-CVD法を用いた。ガリウムイオンビームに対してフェナントレン（導入ガス）を用いることによって、DLCを堆積させることができる。これより、基板上におけるDLCピラーおよび膜の成長条件を比較検討した。