多価Arビームを用いたマイクロ加工

多価効果

抄録

多価イオンが持つ高い反応性に注目し、これをイオンビームリソグラフィーに適用した。多価イオンビーム発生装置によって90 keVに加速し分析電磁石によって選択した1価と9価のArイオンを、Si上に塗布したSOGに照射した。HF水溶液でエッチングし、マスクパターンの転写が1価と9価の両方で確認された。エッチングパターンの深さを測定したところ、1価に比べて9価を照射した方のエッチング深さのほうが深くなった。