エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第2報) 積層プロセスの検討

梶原 優介; 稲月 友一; 高橋 哲; 高増 潔

doi:10.11522/pscjspe.2004A.0.587.0

2004年度精密工学会秋季大会

セッションID: L63

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2004A.0.587.0

会議情報

主催: 社団法人精密工学会

三次元造形（1）

エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第2報)

積層プロセスの検討

*梶原優介, 稲月友一, 高橋哲, 高増潔

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キーワード: 近接場光学, エバネッセント光, 光造形, 積層技術

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抄録

　RP技術のひとつである光造形法は高分解能を実現できる点で大きく注目を浴びている.本研究は,より複雑な3次元微小構造の創成を目的として,近接場光(エバネッセント光)を露光エネルギとして利用し,新しい微小構造創製法の確立を目指している.第1報では,エバネッセント光による高分解能リソグラフィ技術の実現可能性を示した.第2報では微細3次元造形法の確立へ向けて,サブミクロンオーダによる積層プロセスの検討を行う.

責任著者(Corresponding author)

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