エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第3報) 定在エバネッセント強度分布制御法の確立

稲月 友一; 梶原 優介; 高橋 哲; 高増 潔

doi:10.11522/pscjspe.2004A.0.588.0

2004年度精密工学会秋季大会

セッションID: L64

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2004A.0.588.0

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主催: 社団法人精密工学会

三次元造形（1）

エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第3報)

定在エバネッセント強度分布制御法の確立

*稲月友一, 梶原優介, 高橋哲, 高増潔

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キーワード: 近接場光学, 定在エバネッセント, ナノ光造形, エバネッセント光

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抄録

本研究では,高分解能制御が可能な近接場光(エバネッセント光)を露光エネルギとして利用し,高精度かつ設計自由度の高いナノ構造創製技術の確立を目指す.前報までに,定在エバネッセント波を利用することで高分解能な2次元光造形の可能性を示し,積層プロセスを検討することで,数百nmオーダの積層で3次元光造形の可能性を示した.本報では,自由度の高い設計を目指し,積層高さと定在エバネッセント波ピッチ幅の独立制御法の確立を目指す.

責任著者(Corresponding author)

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