組成および構造制御によるB4C系薄膜の機械的特性の改善

神崎 昌郎

doi:10.11522/pscjspe.2005A.0.809.0

2005年度精密工学会秋季大会

セッションID: J37

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2005A.0.809.0

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主催: 社団法人精密工学会

機能性薄膜(2)

組成および構造制御によるB₄C系薄膜の機械的特性の改善

*神崎昌郎

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キーワード: 薄膜, 機械的特性, 組成, 構造

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抄録

熱的安定性に優れるB₄C系薄膜の機械的特性の向上を目的として,DCマグネトロンスパッタリング法による成膜時にメタンガスを導入し,組成制御を行った.メタンガス導入により,若干ナノインデンテーション硬度は低下したが,Si基板に対する密着力は向上し,無潤滑下での摩擦係数は低下した.また,成膜時のSi基板の角度変更により構造を制御し,B₄C系薄膜の摩擦特性に及ぼす影響を評価した.

責任著者(Corresponding author)

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