ヘリコン高周波マグネトロンスパッタ法によるSiC膜の耐摩耗性に及ぼすターゲットの炭素含有量の影響

抄録

ヘリコン型高周波マグネトロンスパッタ法により炭素含有量の異なるSiCターゲットを用いてSUS304基板にSiC膜を成膜した.
ターゲットの炭素含有量の違いにより,堆積した膜の組成や特性は大きく影響を受ける.そこでそれらの諸特性と膜の耐摩耗性に及ぼす影響について検討した.