大粒径多結晶Si薄膜作製のためのGe微結晶核を利用した基板表面制御

抄録

TFTや太陽電池などのデバイスにpoly-Siを用いる試みがなされている。そこで、我々はガラス基板上に粒径が小さく、密度が疎な微結晶を配置し、これを結晶核とする大粒径多結晶Si薄膜の作製方法を検討している。本報告ではガラス基板上の結晶核として、a-Geの固相結晶化により自己組織的に形成されるGe微結晶に着目し、その粒径と密度を減圧中での酸素エッチングによって制御した結果について示す。