精密工学会学術講演会講演論文集
2005年度精密工学会春季大会
セッションID: J33
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プラナリゼーションCMPとその応用(1)
パッド表面分析による研磨メカニズムの検討(第4報)
目詰まり過程におけるパッド表面の化学状態の評価
*藤田 隆石倉 美奈子河井 奈緒子木下 修森岡 善隆
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抄録
目詰まり過程におけるパッド表面の化学的な改質状態を評価した。目詰まり過程及びその後のダミーSi研磨において、各状態に対応したパッド表面をFT-IRで評価した。目詰まり状態では、パッド表面は加水分解され、極性分子が減少することを示した。ダミーSi研磨後のレート回復は、目詰まり過程でパッド極性分子と結合したシラノールがSi研磨により除去され、パッド極性分子が部分的に回復した結果であることを示した。
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© 2005 公益社団法人 精密工学会
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