新規な研磨加工を行った4H–SiC(0001)表面の原子構造解析

抄録

結晶性を有する原子レベルで平坦な4H–SiC(0001)表面の創成を目的とし、白金を触媒としたHF溶液中での研磨による加工を行った。その結果、表面平坦度の向上がAFM観察結果から明らかとなった。さらに、LEED観察から、ウエハ作製時の研磨による加工変質層を除去し、結晶性を有する表面層を露出させ得ることがわかった。また、STM観察による原子像観察結果から、局所的な√3×√3構造の形成が確認された。