Universal Abduction Studioの開発(第8報) 創造的設計支援のためのオントロジー構造

中西 雅俊; 森本 憲悟; 下村 芳樹; 武田 英明; 吉岡 真冶

doi:10.11522/pscjspe.2006S.0.999.0

2006年度精密工学会春季大会

セッションID: M21

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2006S.0.999.0

会議情報

主催: 社団法人精密工学会

設計とサービス工学(3)

Universal Abduction Studioの開発(第8報)

創造的設計支援のためのオントロジー構造

*中西雅俊, 森本憲悟, 下村芳樹, 武田英明, 吉岡真冶

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キーワード: 創造的設計, 類推, アブダクション, オントロジー

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抄録

創造的設計においては対象固有の設計知識のみを用いるのではなく,異なる領域の知識を統合することにより新たな設計知識を得ることが求められる.本研究では創造的設計を総合的に支援する計算機環境の構築を目指し,多様な語彙を内包する各領域知識を統一的に利用可能とするオントロジーを構築している.本稿では創造的設計を支援するためのオントロジーの構造を再整理し,これに基づく知識類似性判定手法の実装例について述べる.

責任著者(Corresponding author)

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