ナノメートル面内方向スケールの開発(第三報) 光回折計,SEM,AFMを用いた持ち回り測定

三隅 伊知子; 権太 聡; 安武 正敏; 粉川 良平; 藤井 透; 児嶋 伸夫; 北村 真一; 多持 隆一郎; 橘田 淳一郎; 黒澤 富蔵

doi:10.11522/pscjspe.2007S.0.331.0

2007年度精密工学会春季大会

セッションID: D24

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2007S.0.331.0

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主催: 社団法人精密工学会

ナノメートル面内方向スケールの開発(第三報)

光回折計,SEM,AFMを用いた持ち回り測定

*三隅伊知子, 権太聡, 安武正敏, 粉川良平, 藤井透, 児嶋伸夫, 北村真一, 多持隆一郎, 橘田淳一郎, 黒澤富蔵

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キーワード: 面内方向スケール, 校正, 不確かさ, 光回折計, CD-SEM, 原子間力顕微鏡

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抄録

第一報で産総研(AIST)計量標準総合センター(NMIJ)が面内方向スケール(ピッチ：100 nm, 60 nm, 50 nm)の開発・ピッチ測定・不確かさ評価を行った．本報では，深紫外光回折計，CD-SEM，市販のAFM及びDLI-AFMを用いてスケールの持ち回り測定を行った．持ち回り測定の結果，多くの参加機関の測定結果が適合性を有し，面内方向スケールが複数種の計測装置の校正への適用可能性を確認できた．

責任著者(Corresponding author)

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