波長走査と位相シフト法を用いた半導体マスクガラスの光学的厚さ計測

金 亮鎮; 日比野 謙一; 尾藤 洋一; 大澤 尊光; 杉田 直彦; 光石 衛

doi:10.11522/pscjspe.2008A.0.181.0

2008年度精密工学会秋季大会

セッションID: C32

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2008A.0.181.0

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主催: 社団法人精密工学会

波長走査と位相シフト法を用いた半導体マスクガラスの光学的厚さ計測

*金亮鎮, 日比野謙一, 尾藤洋一, 大澤尊光, 杉田直彦, 光石衛

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キーワード: 形状計測, 干渉計測, 波長走査, 位相シフト, マスクガラス

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抄録

半導体プロセスの微細化に伴い，マスクガラスの平面度とともにその絶対厚さの正確な測定が要請されるようになった．前回，波長走査をしながら取り込んだ干渉縞画像にフーリエ変換法を施し，マスクガラスの光学的厚さの絶対値を測定した．今回，位相シフト法で測定した厚さ変動分布を光学的厚さの絶対値に統計的合致を行い，より精度の高い厚さ分布の測定を実現した．

責任著者(Corresponding author)

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