主催: 社団法人精密工学会
東京工業大学 大学院総合理工学研究科 知能システム科学専攻
東京工業大学 大学院情報理工学研究科 計算工学専攻
東レエンジニアリング エレクトロニクス事業本部
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半導体やLCD工程などでは,透明膜で覆われた表面の形状や膜厚分布を高速に測定したいという要請がある.筆者らは,既に,一枚の光干渉縞画像から表面形状を求める「局所モデル適合法」を提案した.本講演では,上記を拡張し,透明膜に覆われた試料の表面形状と膜厚分布を同時に測定できる新しい手法を提案する.
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