近接場光を用いたナノインプリント残膜測定法に関する研究（第４報）

局在プラズモン共鳴を利用した膜厚測定法の理論的検討

抄録

本研究では、次世代リソグラフィー技術として期待されている、ナノインプリント技術において、その工程で生じる残膜厚を高精度に測定する方法として、近接場光を利用した計測法を検討している。本報では、更なる高分解能化を目指して、金属探針プローブによる局在プラズモン共鳴現象の利用を提案し、その理論的検討をFDTDシミュレーションを用いて行ったので、報告する。