フェムト秒レーザ照射によるシリコンウエハの周期的表面パターニングとKOHエッチング

抄録

シリコンウエハ表面にフェムト秒レーザを走査照射し，照射波長程度（約800nm）のピッチの微細な周期的パターンを自己組織的に誘起させた．水酸化カリウム水溶液によりエッチングを行なった結果，周期的パターンがマスクとなり周期的に連続した高さ数百ナノメートルの微細構造物が得られた．