EEM(elastic emission machining)のEUV光学素子作製への適用

粉末粒子の挙動解析による加工速度の考察

抄録

我々はこれまでに，極めて高い表面精度を要求する極端紫外光（EUV）露光システム用光学素子の作製において，EEM 加工が十分に高い平滑化性能を有することを示してきた．本研究では，より効率の高い加工条件を明確にするため，加工液の粉末粒子濃度と加工速度との関係を調べた．その結果，加工速度は粒子濃度に比例しないことが分かった．またこの原因を考察する上で，粉末粒子の挙動解析を行ったので報告する．