微細溝および濡れ性パターンを援用した微粒子自己整列の高精度化

抄録

微細溝の凸部と溝部に濡れ性の異なる材料を配置することで微粒子自己整列の高精度化を試みた．高精度化とは，パターンへの選択性が高く欠陥の少ない微粒子列のことを指す．シリコン基板上に予め微細溝を作製し，疎水材であるOTSをコンタクトプリントにより凸部にのみ転写することで微細溝に濡れ性パターンを付与した．本報告では，作製した基板を微粒子が単分散した懸濁液から引き上げることにより微粒子の自己整列を行った．