ＩＣＰ援用ナノパルスプラズマＣＶＤによるＢＮ系薄膜の合成

斉藤 雅典; 齊藤 隆雄; 村上 碩哉; 大竹 尚登

doi:10.11522/pscjspe.2008S.0.917.0

2008年度精密工学会春季大会

セッションID: K21

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2008S.0.917.0

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主催: 社団法人精密工学会

ＩＣＰ援用ナノパルスプラズマＣＶＤによるＢＮ系薄膜の合成

*斉藤雅典, 齊藤隆雄, 村上碩哉, 大竹尚登

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キーワード: 窒化硼素, ナノパルス, CVD, ICP

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抄録

ＢＮ系薄膜は鉄系材料との反応性が低く，耐熱性を有する耐摩耗膜として工具，金型等への適用が期待されている．本研究では常温で固体であるボランアンモニアコンプレックスを昇華させて原料とし，誘導結合プラズマを援用したナノパルスプラズマＣＶＤ法によりＢＮ系薄膜の合成を行った．さらに合成されたＢＮ系薄膜の構造及びトライボロジー特性の評価を行った．

責任著者(Corresponding author)

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