近接場光を用いたナノインプリント残膜測定法に関する研究（第５報）

金属プローブを用いた散乱型検出法による膜厚測定実験

抄録

本研究では、次世代リソグラフィー技術として期待されているナノインプリント技術において、その工程で生じる残膜の厚みを高精度に計測する方法として、近接場光を利用した計測法を検討している。本報では、前方で理論的に検討した、金属プローブを用いた散乱型検出法の適用可能性を検証するため、実際にナノインプリントサンプルに対して実験を行ったので、報告する。