ArイオンビームによるAgのスパッタリング率の測定

抄録

スパッタリング法はマイクロ・ナノサイズで表面形状を制御できる加工法であり、スパッタリング率はその基礎データとなる重要な量である。本研究では、Arイオンビーム照射前後のAg薄膜の質量変化を精密に測定し、スパッタリング率を絶対測定することに成功した。測定した結果をSRIMによる計算結果と比較し、その妥当性を検証した。