リフトオフ法を用いたパターン薄膜形成プロセスの一設計手法

抄録

パターン薄膜形成に対して、リフトオフ法を用いた高コストパフォーマンスなプロセスが提案されている。そのプロセスの実用には、所望の形状の膜が得られるように、レジスト断面形状を適正に設計することが必要であり、そのための手法も提案されている。しかし、形成される膜の形状は、レジスト断面形状だけでなく成膜条件にも依存する。本発表では、成膜条件とレジスト断面形状の統合設計手法を提案する。