計算科学シミュレーションによるCeO₂系ナノ粒子の化学機械研磨プロセスの解明

抄録

本研究ではCeO₂系ナノ粒子の化学機械研磨プロセスを解明するため、分子動力学法及び第一原理計算を活用してCeO₂系ナノ粒子の研磨特性を解析し、SiO₂表面における研磨シミュレーションを行った。特に、CeO₂に3価の原子を添加することによって酸素欠陥が生成され、ナノ粒子表面におけるCe原子の電荷に影響することを確認した。また、そのような電荷の変化がSiO₂表面研磨に与える影響を議論した。