抄録
グレースケールレーザビームリソグラフィはレーザ描画中の照射量を制御することによって多段あるいは波形曲面をレジストに簡単に低コストで作製する工程である. 本研究では，G-LBL法を多段型(Si及び石英)とグレースケール光学部品製作に適用するための基礎研究を行なった. 相対レーザ照射量と現像後のレジスト膜厚及び干渉色との関係を調べた上，そのデータを基に，カラーフィルター用試作パターン構造を形成した. また，反応性イオンエッチングを併用して多段Siと石英型を製作し，その型としての有効性を光インプリント実験評価を通して確認した.
