ＨＷＣＶＤ法によるシリコン炭窒化膜の摩擦係数評価

抄録

我々は、プラズマフリーで低温かつ大面積堆積が可能なホットワイヤーＣＶＤ（ＨＷＣＶＤ）法により、シリコン炭窒化膜（SiCN）の研究を行ってきた。SiCN膜は耐食性に優れた透明絶縁膜である。本報告ではSiCN膜を機械加工分野で活用することを目的とし、SiCN膜の剥離強度、硬度、摩擦係数などシリコン炭窒化膜の特性について述べる。