Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製　第4報

シリコン表面に対する非球面形状作製と評価

抄録

我々は，高精度X線ミラーを作製するために，IBF(Ion Beam Figuring)システムの開発を行ってきた．本研究では，シリコン基板上に数値制御技術を用いて，1次元での非球面形状の作製を行い，その形状誤差を評価した．また，イオンビーム出射口付近にビーム偏向器を新たに設置し，その性能評価を行った．本偏向器を用いて，ビームをミラー短軸方向に高速に振らすことで，形状誤差精度の向上を目指した．