高精度CMMの開発（第6報） 二軸差分干渉計を用いた環境による不確かさの低減

高村 智彦; 鳥山 陽平; 楊 平; 高橋 哲; 高増 潔; 佐藤 理; 大澤 尊光; 高辻 利之

doi:10.11522/pscjspe.2012A.0.933.0

2012年度精密工学会秋季大会

セッションID: N07

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012A.0.933.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

高精度CMMの開発（第6報）

二軸差分干渉計を用いた環境による不確かさの低減

*高村智彦, 鳥山陽平, 楊平, 高橋哲, 高増潔, 佐藤理, 大澤尊光, 高辻利之

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キーワード: CMM, 干渉計, 校正, 多点法

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抄録

高精度三次元測定機の開発のためには，ステージの運動学誤差の評価が重要である．本研究ではそのための手法として多点法を提案し，リニアステージの運動学誤差と参照ミラー形状を分離して評価する．一軸を三つのレーザー干渉計と一つのオートコリメータで測定し，環境の影響による不確かさが大きいことを確認した．本報では，二軸差分干渉計を用いた多点法測定で，不確かさ10nmを目指す．

責任著者(Corresponding author)

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