精密工学会学術講演会講演論文集
2012年度精密工学会春季大会
セッションID: C14
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計算科学シミュレーションを用いたCeO2砥粒によるガラス研磨の化学反応機構の解析
*石川 宗幸河口 健太郎中村 美穂樋口 祐次尾澤 伸樹島崎 智実久保 百司
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キーワード: 研磨
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抄録
CeO2砥粒はガラス材の研磨に用いられているが、輸出制限などの影響で代替砥粒開発が急がれており、その開発方針を得るためには電子・原子レベルで研磨メカニズムを解明する必要がある。そこで本研究では分子動力学法や第一原理計算を用いてCeO2砥粒によるSiO2表面の研磨シミュレーションを行い、研磨による表面の構造変化や研磨プロセスにおける化学反応について解析し、ガラスの研磨のメカニズムについて検討した。
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© 2012 公益社団法人 精密工学会
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