電子線リソグラフィを用いたジブロック共重合体ミクロ相分離膜の選択的パターニング

鈴木 裕之; 米谷 玲皇; 割澤 伸一; 石原 直

doi:10.11522/pscjspe.2012S.0.43.0

2012年度精密工学会春季大会

セッションID: A31

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012S.0.43.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

電子線リソグラフィを用いたジブロック共重合体ミクロ相分離膜の選択的パターニング

*鈴木裕之, 米谷玲皇, 割澤伸一, 石原直

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キーワード: 電子線リソグラフィ, ジブロック共重合体, 自己組織化, ナノポーラス構造

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抄録

大面積に周期的なナノ構造を作製できる手法としてジブロック共重合体のミクロ相分離構造が注目されている．本研究では，ポリスチレン(PS)ーポリメチルメタクリレート(PMMA)ブロック共重合体を用いて，PMMAの円柱が直立した基板をレジストにした電子線リソグラフィを行った．電子線を照射するとPMMAは除去され，PSが硬化された結果，照射した箇所にのみ選択的ナノポーラス構造を作製できることを確認した．

責任著者(Corresponding author)

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