光導波路のための高速せん断加工の開発

中林 良太; 下田 誠; 長藤 圭介; 井ノ上 泰輝; 千足 昇平; 丸山 茂夫; 濱口 哲也; 中尾 政之

doi:10.11522/pscjspe.2012S.0.49.0

2012年度精密工学会春季大会

セッションID: A34

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012S.0.49.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

光導波路のための高速せん断加工の開発

*中林良太, 下田誠, 長藤圭介, 井ノ上泰輝, 千足昇平, 丸山茂夫, 濱口哲也, 中尾政之

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キーワード: 光導波路, 高速せん断加工

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抄録

光導波路は，金属配線に比べ高速通信が可能で，電波障害への耐性が高い．本研究は高速せん断加工を用いて光導波路を作製することを目的とする．高速せん断加工はリソグラフィを用いないため，低コストで作製できる．下地膜としてSWNTsを用い，その上にSiO2，Si，SiO2の三層を積層し，二次元パターンを有した型に衝撃力を加え多層膜の一部をせん断し移動させ， SiをSiO2に内包させ，Siコア，SiO2クラッドを達成できる．

責任著者(Corresponding author)

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