N-フルオロピリジニウム塩を用いたエッチングによるSi表面テクスチャの形成

抄録

シリコン表面にN-フルオロピリジニウム塩を塗布し、加熱すると、塗布した部分がエッチングされる。エッチング深さは温度や加熱時間に依存して増加することがわかっている。本研究では、N-フルオロピリジニウム塩を塗布したシリコンを暗室内で一定時間放置することで、シリコン表面に逆ピラミッド構造をしたテクスチャの形成を試みた。