定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第14報）

コヒーレント結像逐次再構成型超解像法

抄録

高い解像力を持つ光学式半導体欠陥検査技術の開発にあたって，我々は定在波による周期的照明パターンを空間的にシフトさせ，散乱光変調情報を含む複数画像を取得し，計算機による後処理を加えることで，レイリー限界を超えた解像を行う方法を研究している．従来インコヒーレント結像を前提としたアルゴリズムを用いており，解像特性に悪影響をもたらしていた．本報では新たにコヒーレント結像逐次再構成型超解像手法を提案する．