放射光を用いたin-situ XPSによる極薄GeO₂表面の吸着水の観測

抄録

ゲルマニウム（Ge）は、Siに代わる次世代トランジスタ用の基板として有望である。その際、GeO₂は鍵となる材料であるが、水溶性という特異な性質を持つ。そのため、大気中での劣化が大きな問題になると予想されるが、GeO₂表面での吸着水の挙動（濡れ性）には不明な点が多い。本研究では、放射光を用いたin situ XPSにより、湿度制御条件下において、GeO₂表面に形成される吸着水の厚さを調査した。