ガラス基板の研磨における酸化マンガン系スラリーの開発と研磨メカニズムの考察

武藤 美代; 瀬下 清; 黒河 周平; 土肥 俊郎; 梅崎 洋二; 山崎 努

doi:10.11522/pscjspe.2013S.0.657.0

2013年度精密工学会春季大会

セッションID: J46

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2013S.0.657.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

ガラス基板の研磨における酸化マンガン系スラリーの開発と研磨メカニズムの考察

武藤美代, 瀬下清, *黒河周平, 土肥俊郎, 梅崎洋二, 山崎努

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キーワード: CMP, 酸化マンガン, ガラス

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抄録

本研究では,強力な酸化作用を持つ素材であり,さらに３価・４価の状態を取りうる性質を持つ酸化マンガン系スラリーに着目し,ＨＤＤ用ガラス基板の高能率高精度スラリーの開発を指向し,酸化マンガン系スラリーの研磨特性の検討を行った.その結果,研磨メカニズムを検証することができ,さらにガラス基板の研磨に対して酸化マンガン系スラリーの有効性を見出すことができた.

責任著者(Corresponding author)

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