大気開放型プラズマCVMにおける高精度・高効率化に関する研究（第4報）

PWM制御適用時における加工量および基板温度の平均電力依存性

抄録

PCVMは大気圧下で電極直下に発生させた局所的なグロープラズマを用い、数値制御により任意形状を創成する超精密加工法である。現在我々はPWM制御をPCVMに適用する事で電極-試料間に投入する平均電力を制御し、任意形状を高精度に創成することを目標としている。本報では PWM制御適用時における加工量および基板温度の平均電力依存性を調査した結果を報告する。また基板温度上昇に伴う加工量誤差の抑制方法について報告する。