無電解NiPメッキを使用した中性子集光ミラー用金属基板の中性子反射率測定による性能評価

抄録

中性子スーパーミラー基板を金属材料の超精密切削と機械研磨によって作製できれば、従来の石英を研磨する手法と比べて遥かに容易に高精度な曲面を創成できる。本研究では、超精密切削と機械研磨によって作製された平板試験片に関して中性子反射率測定による散漫散乱強度の評価を行うため、測定体系の最適化を行った。作成された試験片からの散漫散乱強度は小さく、表面粗さは中性子小角散乱測定に使用可能なほど小さいと思われる。