ナノスリット中の長いDNA分子に対する電気泳動及び流体圧力の印加に関する研究

湯川 泰弘; Park Jong Ho; 新田 英之; Kim Beom Joon

doi:10.11522/pscjspe.2014S.0_731

2014年度精密工学会春季大会

セッションID: J08

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2014S.0_731

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主催: 公益社団法人精密工学会

ナノスリット中の長いDNA分子に対する電気泳動及び流体圧力の印加に関する研究

*湯川泰弘, Park Jong Ho, 新田英之, Kim Beom Joon

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キーワード: DNA分離, 電気泳動, 流体圧力, ナノスリット

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抄録

半導体加工技術を用いてシリコン基板上に作製した任意の深さのナノスリットデバイスを用い、YOYO-1で染色したT4-DNA(166kbp)及び、λ-DNA(48.5kbp)がその旋回半径よりも小さな空間（200nmナノスリット）に閉じ込められた状況下において、電気泳動と流体圧力を印加した際のDNA分子挙動を蛍光観察した。

責任著者(Corresponding author)

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