半導体構造の形状評価の研究（第1報）

TEM及びCD-SEM画像によるFinFET形状の測定

抄録

近年、半導体産業における回路の微細化が進んでいる。しかしながら、微細な回路に対応した測定方法及び評価方法の標準は確立されていない。本研究では、新しい半導体構造として注目されているFinFET構造の形状評価方法の確立を目指す。本報では、TEM及びCD-SEM画像を用いてFinFET構造の形状解析を行った。