主催: 公益社団法人精密工学会
技術コンサルタント
東レエンジニアリング 開発部門 要素技術開発センター
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我々は，カラーカメラにより得られる干渉色画像から膜厚を推定する新たな膜厚分布測定法GMFT (Global Model Fitting for Thickness) を開発した．これにより，半導体ウエーハ上の膜厚分布や，流下するシャボン膜の膜厚変化が高速高精度で測定可能になった．ところで，産業界では，たとえば，カラーフィルタやカラーレジストのような半透明膜の膜厚測定のニーズも高い．本報では，GMFT法を拡張して半透明膜に対応可能にした新しいアルゴリズムと，その計算機実験の結果を報告する．
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