ナノインプリントリソグラフィ用容積均一化モールドの粒度設計に関する研究

抄録

光ナノインプリント（UV-NIL）技術を多種多様なデバイスに適用するため、高速充填や欠陥（バブル欠陥や不均一残膜分布）の低減による高スループット、低コスト化が求められている。先行研究では、高速充填や残膜均一化を可能にするリソグラフィ用モールドの設計技術の高度化を目的に、元モールドパターンから容積均一化用の加工パターンデータを自動生成するためのプログラムのアルゴリズムを提案し、その妥当性の基礎検証を行った。それに引き続き、本研究では、パターンジェネレータープロトタイプやナノインプリント解析用ソフトウェアを併用し、容積均一化効果の分割領域（粒度）等、異なる補正パターン形状および粘度条件に対しての成形特性の依存性を調べ、充填時間と粒度サイズの関係、粘度-充填時間-残膜均一化効果の関係等を明らかにした。