静電レンズ機構を有するステンシルマスクの提案

抄録

近年，有機・高分子・生体材料のマイクロパターニングにおいて，さらなる微細化への要求が高まっている．エレクトロスプレーデポジション(ESD)法とステンシルマスクを組み合わせた手法は，これらの材料を広範囲かつ精密にマイクロパターニングすることができる．しかし，ステンシルマスクにおいて，穴のナノ加工は難しく，また，粒子が詰まる可能性も高いため，微細化には限界がある．本報では，ESD法の帯電粒子を静電レンズのように集束し，穴よりも小さいパターンを形成可能なステンシルマスクを提案し，その作製プロセスについて報告する．