サブ回折限界微小開口の非破壊光学式深さ計測法（第三報）

提案手法の原理検証

抄録

半導体デバイスやMEMSに代表される微小構造においては，光の回折限界以下の開口サイズを有する微小穴の深さを非破壊で計測する技術が求められている．本研究では，平面波を照射した穴付近の特徴的な光学応答に着目した新たな光学式計測法の提案をしている． 前報は，微小開口における光学応答の理論解析により，実験手法を提案し，装置を設計した．本報では，提案手法の検証を行い，構築した実験装置を用いて，基礎実験を行った．