半導体レーザを用いたスペックルシアリング干渉法によるひずみ分布測定システム

抄録

二個の半導体レーザーを用いた、スペックルシアリング干渉法によりひずみ分布を測定するシステムを提案したい。回折格子を用いたシアリングと位相シフトを行うことで、可干渉距離の短い半導体レーザーを用いて、ひずみ分布が測定できることを実験的に示す。